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オントゥ・イノベーションはプロセスコントロールのリーダーであり、最先端技術の拡張されたポートフォリオを兼ね備えています。パターン化されていないウェーハの品質、ナノメータースケールのトランジスタから大規模なダイ配線までのチップ形状を網羅する3D計測、ウェーハとパッケージのマクロ欠陥検査、元素層の組成、重ね合わせ測定、工場分析、高度な半導体パッケージの為のリソグラフィなどがあります。半導体のバリューチェーン全体にわたって幅広い製品を提供し、コネクテッド・シンキング・アプローチと組み合わせることで、お客様の最も困難な歩留まり、デバイス性能、品質、信頼性の問題を解決するためのユニークな視点を提供します。また、お客様をよりスマートに、より速く、より効率的にすることで、お客様のクリティカルパスの最適化に努めています。米国に本社と製造拠点を置き、世界規模の販売・サービス体制でお客様をサポートしています。詳細については、www.ontoinnovation.comをご覧ください。
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製品カテゴリー (50)
ウェーハレベルパッケージング/バンピング用リソグラフィー/三次元露光装置 / Lithography Systems for Wafer Level Packaging; Bumping; 3D Interconnect Aligners, CV(キャパシタンス-電圧)プローブシステム / CV (capacitance-to-voltage) Probe systems, ウェーハ:基板測定/トポロジ/ナノトポグラフィ/平坦度測定/結晶方位 / Wafer; Substrate Metrology; Topology; Nanotopography; Flatness Measurement; Crystalline Orientation, ストレス:屈折率/反射率及び伝導率測定 / Stress; Refractive Index; Reflectivity & Conductivity Measurement, ダイ検査/ダイの切り出し / Die Inspection; Die Shear, パッケージ検査/リードスキャナー / Package Inspection; Lead Scanners, メッキ検査装置 / Plate Inspection Equipment, ライン幅:クリテカル寸法(CD)測定 / Line Width; Critical Dimension (CD) Measurement, 分光計:フーリエ変換赤外分光(FTIR)/減衰全反射FTIR(ATR-FTIR)/オージェ電子(AES)/SIMS / Spectrometers; FTIR; ATR-FTIR; Auger Electron (AES); SIMS, 欠陥/パーテクル/バンプ/汚染検出、評価、検査 / Defect; Particle; Bump; Contamination Detection, Review or Inspection, 膜厚:厚さ/均一性測定/エリプソメーター / Film Thickness; Thickness; Uniformity Measurement; Ellipsometer, 表面測定 / Overlay Measurement, 音響分光学/化学分析用電子分光法(ESCA)/超音波/超音波顕微鏡 / ESCA; Ultrasonic; Acoustical Microscopes, 顕微鏡:光学顕微鏡 / Microscopes: Optical Microscopes, 顕微鏡:共焦点走査型顕微鏡;3-Dビデオ顕微鏡 / Microscopes: Confocal Scanning Microscope; 3-D Video Microscopes, プローブカードメンテナンス及び解析装置 / Probe Card Maintenance and Analysis Systems, ファクトリーオートメーション;セル管理ソフトウェア / Factory Automation; Cell Controller Software, 歩留り管理;プロセス管理ソフトウェア / Yield Mgmt; Process Control Software
Event Details
| Date | Dec 9 — Dec 11, 2026 |
|---|---|
| Time | 10:00am — 5:00pm |
| Location | Tokyo, Japan |
| Exhibit | Booth E2832 |